ÜRÜNLER
ZEEPMAC 2K
Solventsiz epoxy reçine,alifatik aminden oluşan çift bileşenli,plak yapıştırma ve ince tamirat işlemlerinde kullanılabilen montaj epoksisi.
KULLANIM ALANLARI
• Karbon
plakaların yüzey ile arasında boşluk kalmadan yapıştırılmasında
•
Granit,mermer,seramik,doğal taşların yapıştırılmasında
• Tarihi
binaların restorasyonunda
• Asit Baz direnci istenen her yüzeyde seviye eşitleme düzleştirme macunu olarak yüksek mekanik direnç istenen alanlarda kullanılır.
UYGULAMA
Yüzey
hazırlama:
• Beton
yüzeylerde tüm yüzey mekanik usuller ile toz, kir ve serbest partiküllerden
arındırılmalıdır.
• Korozyona
uğramış kolon demir donatılara Sa 2,5 kum raspası uygulanmalı. Pastan
arındırılmış olan demir donatı üzerine (ISOWEIR U-Pox Shop Primer) oksidasyon
koruyucu uygulanır.
• Derin
Çukur ve çatlaklar optik birliktelik sağlayacak şekilde elyaflı harç içine
mikro polimer astar malzemesi kullanılacak su miktarı kadar katılarak
doldurulmalıdır.
• Yüzeylerin
tüm keskin kenarlarına pah yapılmalıdır.
Ürün
hazırlama ve Uygulama:
• Karışım
oranı ağırlıkça A bileşen 16 kg, B Bileşen 4 kg olarak karıştırılarak
oluşturulmalıdır.
• Tatbikat ısı limitleri dikkate
alınarak Zeepas Astar uygulamasından 24 saat sonra Karbon Plaka yüzeyine ve
yapıştırılacağı alana 1-1,5 mm spatula ile sürülür. Plaka baskılanarak montajı
yapılan yüzey ile arada hava boşluğu kalmaması sağlanır.
• Plaka üzerine ISOWEIR ZEEPSON FRP
2K ince kat uygulanır ve yüzeye kum
serpilir. Bu işlem daha sonra uygulanacak sıva için yapışma yüzey alanın
artırılmasını güçlü yapışmayı sağlar.
• DİKKAT
EDİLECEK HUSUSLAR: Tatbikat esnasında gözler korunmalı. Eldiven giyilmesi
tavsiye edilir.
• Cilde
temas halinde bol su ve sabun ile yıkanmalıdır. Göz ile temas halinde doktora
başvurunuz.
• Uygulamadan hemen sonra tüm iş aletleri ISOWEIR TİNER ile temizlenmelidir.
ÖZELLİKLER, AVANTAJLAR
• Düşey ve
yatay tavan yüzeylerinde uygulanır.
• Adezyonu
(iki farklı malzemenin birbirine yapışması) yüksektir.
• Nem
toleransı yüksektir.
• Solvent
içermemektedir.
• Fiziksel
ve kimyasal etkenlere karşı dayanıklıdır.